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据悉，规划这一次的研究成果来自于韩国科学技术院（KAIST）和材料技术公司KolonGlotech所组成的一支研究团队。一、累计导读HfO2，中文名：二氧化铪，英文名：hafniumoxide或hafnia。

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此外，年年内在室温条件下同样实现了在Pt/TiOx/SiO2/(100)Si、结晶的ITO/sodaglass、非晶的ITO/PET等基片上成功沉积多晶YHO7薄膜。这项研究从原子尺度明确了硅在促进铁电相中的独特作用以及掺杂剂对HfO2的唤醒效应，收近有助于理解HfO2铁电体在器件中的集成应用。